低抛光粉一般含有50%左右的CeO2，其余50%为La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，稀土抛光粉生产工艺，Pr6O11?SO3等碱性盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高抛光粉低。
因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。
小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，稀土抛光粉厂家，产量逐年提高。
纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
在稀土抛光粉的消费中，日本是消费者，每年约生产3550吨~4000吨抛光粉，产值35亿~40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。
其中抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。
二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，稀土抛光粉的价格，对基抛光粉的需求量也迅速增加。
估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%.90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如：日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用基抛光粉。
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